Hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin films were synthesized on the surface of materials to improve mechanical, optical and chemical properties. In the present study, plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) was performed to produce a-C:H films with PLC (polymer like carbon) and DLC (diamond like carbon) phases. The influences of the acetylene partial pressure and chamber pressure on the chemical structures of the products were evaluated by infrared reflection absorption spectroscopy (IRRAS) and Raman spectroscopy. Moreover, the morphology and thickness of the films were investigated by atomic force microscopy (AFM) and profilometry, respectively.
Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) têm sido depositados na superfície de materiais para melhorar propriedades mecânicas, ópticas e químicas. Nesse estudo, foi empregado o sistema de deposição química assistida por plasma (PECVD) para sintetizar filmes de a-C:H com fases DLC (tipo diamante) e PLC (tipo polimérico). As pressões parciais de acetileno em argônio foram variadas e as estruturas dos produtos analisadas pela técnica de espectroscopia de reflexão-absorção no infravermelho (IRRAS) e Raman. Além disso, a morfologia e as espessuras dos filmes foram determinadas por microscopia de força atômica (AFM) e perfilometria, respectivamente.